آموزش مهندسی سطح پیشرفته چکیده



0
0

برای کسب اطلاعات بیشتر، به این لینک مراجعه نمایید: https://fdrs.ir/yq1y/ بیشتر تخریب‌های قطعات صنعتی از سطح آن‌ها رخ می دهد و اصلاح و بهبود خواص سطح که از آن به عنوان مهندسی سطح نام برده می شود، می تواند به طور قابل ملاحظه ای تخریب قطعات را به تاخیر بیندازد، و البته این فقط یکی از دلایلی است که مهندسی سطح از اهمیت بسزایی برخوردار است. با توجه به عملکرد مورد نیاز هر پوشش، روش یا روش‌های متفاوتی برای اعمال آن وجود دارد. روش پوشش دهی در خلا، یکی از متنوع ترین روش‌ها برای اعمال گستره وسیعی از پوشش‌ها است که در این فرادرس به طور دقیقی مورد بحث قرار می گیرد. سپس انواع روش‌های پاشش و عملیات سطحی با استفاده از لیزر بیان می شود. در نهایت روش‌های بررسی خواص و ارزیابی پوشش‌های اعمال شده مورد بررسی قرار می گیرد. سرفصل‌های مورد بحث در این فیلم آموزشی عبارت‌اند از: درس یکم: مقدمه ای بر مهندسی سطح مهندسی سطح، راهی برای عملکرد بهینه قطعات معیارهای انتخاب یک عملیات سطحی پارامتر دما پارامتر ضخامت مهم ترین فرایندهای مهندسی سطح (مروری بر فرایندهای مهندسی سطح) مشخصه یابی و ساختارهای پوشش درس دوم: پلاسما و کاربرد آن در مهندسی سطح معرفی پلاسما دمای پلاسما چگالی پلاسما حفاظ دبای ویژگی‌های پلاسما (پارامترهای پلاسما) حرکت تک ذره باردار در حضور میدان الکتریکی و مغناطیسی روش‌های تولید پلاسما تولید پلاسما با لیزر یونیزاسیون با الکترون تخلیه الکتریکی بین دو الکترود تولید پلاسما در حضور میدان مغناطیسی اندرکنش پلاسما و سطح تمیزکاری سطح فعال سازی سطح اچ کردن قطعه استفاده از پلاسما در فرایندهای مهندسی سطح روش DBD جت پلاسما در فشار اتمسفر کندوپاش (Sputtering) روش پاشش پلاسما درس سوم: معرفی خلا و تجهیزات آن (وسایل به کار رفته در سیستم‌های مدرن مهندسی سطح) آشنایی با خلا مختصری از خواص گاز توزیع انرژی و سرعت ذرات میانگین پویش آزاد زمان تشکیل یک لایه اتمی رها شدن گاز از جامدات نفوذ واجذبی تراوش انواع پمپ‌های خلا پمپ‌های مکانیکی پمپ روتاری وین پمپ اسکرول پمپ اسکرو پمپ دیافراگم پمپ روتاری پیستونی پمپ لوب یا روتز پمپ توربو مولکولار پمپ دیفیوژن پمپ جاذب پمپ تصعیدی تیتانیم پمپ جاذب غیر تبخیری پمپ یونی پمپ کرایوژنیک فشارسنج‌های خلا فشارسنج با اندازه گیری مستقیم فشارسنج دیافراگم فشارسنج دیافراگم ظرفیت خازنی فشارسنج Bourdon Tube فشارسنج براساس دیواره مایع فشارسنج با اندازه گیری غیرمستقیم فشارسنج براساس هدایت گرمایی فشارسنج پیرانی فشارسنج ترموکوپل فشارسنج براساس یونیزاسیون فشارسنج کاتد داغ فشارسنج پنینگ دبی سنج رتامتر دبی سنج جرمی گرمایی توماس شیرهای خلا شیرهای توپی شیر سوزنی شیر پروانه ای محفظه خلا وسایل جانبی فیدترو فیدترو الکتریکی فیدترو پنجره دید درس چهارم: لایه شانی در خلا لایه شانی فیزیکی از بخار (PVD) اصول PVD دسته بندی روش‌های PVD لایه نشانی تبخیری کندوپاش منابع تبخیر (انواع روش‌های تبخیر) منبع حرارتی مقاومتی تبخیر لحظه ای منبع حرارتی القایی منبع حرارتی باریکه الکترونی تفنگ الکترونی گرما یونی تفنگ الکترونی پلاسمایی مشکلات روش EBPVD منبع حرارتی قویس قوس هدایت شده منبع حرارتی لیزر توزیع ضخامت و یکنواختی پوشش یکنواختی ضخامت مقطع پوشش یکنواختی ضخامت در دو طرف زیرلایه یکنواختی ضخامت در فواصل مختلف از زیرلایه اصول تبخیر فلزات و آلیاژها تبخیر فلزات خالص تبخیر آلیاژها (تک بوته) تبخیر آلیاژها (از دو بوته) تبخیر ترکیبات شیمیایی مانند اکسیدها معرفی کندوپاش (PVD به کمک پلاسما) نواحی مختلف تخلیه نورانی اندرکنش یون با سطح هدف نرخ کندوپاش تاثیر پارامترهای فرایند لایه نشانی دیاگرام تورنتون دیاگرام تورنتون اصلاح شده مقایسه کندوپاش با روش‌های دیگر PVD تکنیک‌های کندوپاش تقسیم بندی براساس منبع تغذیه کندوپاش RF تقسیم بندی براساس تعداد الکترودها کندوپاش دیود و تریود تقسیم بندی براساس شکل میدان مغناطیسی کندوپاش و کندوپاش مغناطیسی کندوپاش مغناطیسی نامتعادل نوع ۱ کندوپاش مغناطیسی نامتعادل نوع ۲ کندوپاش مغناطیسی متعادل تقسیم بندی براساس گاز مورد استفاده فرایند واکنشی و غیرواکنشی ویژگی‌های پلاسما و بمباران یونی محدوده انرژی یون‌های برخوردی دسته بندی بمباران یونی اندرکنش یون زیرلایه در هنگام رشد فیلم تاثیر ولتاژ بایاس بر فرایند کنترل فرایند کندوپاش مسموم شدن کاتد در فرایند واکنشی راه‌های جلوگیری از مسموم شدن کاربردهای روش کندوپاش پوشش‌های سخت پوشش‌های تزئینی پوشش‌های چندلایه آبکاری یونی مزایای آبکاری یونی درس پنجم: لایه نشانی در خلا لایه نشانی شیمیایی از بخار (CVD) معرفی روش CVD دسته بندی روش‌های CVD اصول فرایند CVD سیستم CVD سیستم توزیع گاز راکتورهای CVD راکتور با دیواره سرد راکتور با دیواره داغ طراحی فرایند CVD ترمودینامیک پیش ماده چسبندگی پوشش عوامل کاهش چسبندگی زیرلایه دینامیک جریان گاز عوامل کنترل کننده سرعت مراحل اصلی فرایند CVD تاثیر فشار در مکانیزم کنترل کننده سرعت تاثیر سرعت گاز در مکاینرم کنترل کننده سرعت جوانه زنی مکانیزم لایه نشانی مورفولوژی و ریزساختار (ساختار و شکل لایه‌ها) تاثیر زیرلایه بر مورفولوژی کاربرد روش‌های CVD معرفی روش CVD به کمک پلاسما فیزیک و شیمی تخلیه الکتریکی در PACVD مراحل تشکیل پوشش و تاثیر پلاسما بر آن فرایندهای داخل پلاسما تاثیر ولتاژ بایاس تجهیزات PACVD کاربردهای PACVD نیتروژن دهی پلاسمایی اصول نیتروژن دهی شماتیک ترکیب شیمیایی سطح اثر عناصر آلیاژی مزایا و معایب کربن دهی پلاسمایی کربن دهی شرایط کربن دهی پلاسمایی سختی کربن دهی درس ششم: کاشت یون و پوشش دهی به کمک یون معرفی فرایند کاشت یون منبع یونی فرایندهای مبتنی بر کاشت یون (مکانیزم‌های تشکیل لایه) کاشت یون بخیه زنی یونی مخلوط سازی با باریکه یونی مخلوط سازی بازگشتی مفید برای رشته‌های مهندسی مواد و متالورژی مهندسی مکانیک مهندسی شیمی مهندسی پلاسما مدرس: دکتر علیرضا فرهادی زاده

Published by: FaraDars — فرادرس Published at: 3 years ago Category: